抛光垫又称抛光皮，抛光布，抛光片，化学机械抛光中决定表面质量

的重要辅料。
作用:
①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域；
②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出，达到去

除效果；
③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行；
④保持抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌；
影响因素:
①硬度-抛光垫的硬度决定保持面形精度的能力；
②压缩比-压缩比反应抛光垫的抗变形能力；
③涵养量-抛光垫的涵养量是单位体积的抛光垫存储抛光液的质量；
④粗糙度-表面粗糙度是抛光垫表面的凸凹不平程度,；
⑤密度-密度是抛光垫材料的致密程度；